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電子束光刻機(jī)

  • 型號(hào):ZEL304G
  • 品牌:ZEPTOOLS
  • 特點(diǎn):電子束光刻機(jī)采用場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)浜弦惑w化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。
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電子束光刻機(jī)ZEL304G采用場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)浜弦惑w化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)對(duì)半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨光刻。該系統(tǒng)標(biāo)配高精度激光干涉樣品臺(tái),允許用戶實(shí)現(xiàn)大行程高精度拼接和套刻需求,在新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電 子、光子、量子研究領(lǐng)域發(fā)揮重要作用。

電子束光刻機(jī)ZEL304G

產(chǎn)品特色

激光干涉樣品臺(tái)

先進(jìn)的激光干涉樣品臺(tái),滿足大行程高精度拼接和套刻需求

場(chǎng)發(fā)射電子槍

高分辨場(chǎng)發(fā)射電子槍是光刻質(zhì)量的重要保證

圖形發(fā)生器

一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng),允許用戶快速、 便捷地刻蝕復(fù)雜圖案

技術(shù)參數(shù)

技術(shù)參數(shù)說(shuō)明
樣品臺(tái)指標(biāo)
標(biāo)配激光干涉樣品臺(tái)
樣品臺(tái)行程≥105 mm
拼接精度優(yōu)于50nm(平均值+1σ)
套刻精度優(yōu)于50nm(平均值+1σ)
電子槍及成像指標(biāo)
肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍加速電壓20V~30kV;旁側(cè)二次電子探測(cè)器和鏡筒內(nèi)電子探測(cè)器
圖像分辨率≤1 nm @ 15 kV; ≤1.5 nm @ 1 kV
束流密度>7000A/cm2:電子束流≥100nA
最小束斑尺寸≤2nm
光刻指標(biāo)
電子束閘上升沿<100ns
寫(xiě)視場(chǎng)≥500x500 um
最小單次曝光線寬<15nm(同時(shí)取決于工藝條件)
掃描速度≥20MHz

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