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無掩模光刻機(jī)

無掩模光刻機(jī)不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形,而是通過計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光,形成所需的微細(xì)圖形。

  • 型號(hào):DMD無掩膜光刻機(jī)
  • 品牌:ZEPTOOLS
  • 特點(diǎn):無掩模光刻機(jī)不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形,而是通過計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光,形成所需的微細(xì)圖形。
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產(chǎn)品介紹

無掩模光刻機(jī)不需要使用傳統(tǒng)的物理掩膜版來轉(zhuǎn)移電路圖形,而是通過計(jì)算機(jī)控制的高精度光束直接在感光材料上進(jìn)行掃描曝光,形成所需的微細(xì)圖形。目前在微電子制造、微納加工、MEMS、LED、生物芯片等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。

無掩模光刻機(jī)

工作原理

無掩模光刻機(jī)工作原理

產(chǎn)品特色

▲ 納米壓電位移臺(tái)拼接技術(shù)

▲ 紅光引導(dǎo)曝光,所見即所得

▲ OPC修正算法優(yōu)化圖形質(zhì)量

▲ CCD相機(jī)逐場(chǎng)自動(dòng)聚焦

▲ 灰度勻光技術(shù)

技術(shù)參數(shù)

關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)
紫外光源中心波長(zhǎng)405nm
勻光率96%
極限分辨率0.5μm
單寫場(chǎng)曝光面積1.2x0.9 mm2(10x)
2.5x1.9 mm2(5x)
刻寫速率10 mm2/min (10x)
40 mm2/min (5x)
配置手動(dòng)型號(hào)標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)
光源405 LED405 LED或汞燈光源
DMD芯片65006500
微鏡尺寸7.56μm7.56μm
微鏡陣列1920x10801920x1080
單寫場(chǎng)面積(10x)1.45x0.81mm1.45x0.81mm
位移臺(tái)手動(dòng)位移臺(tái)電動(dòng)位移臺(tái)
離焦控制手動(dòng)聚焦自動(dòng)聚焦
大面積光刻手動(dòng)自動(dòng)拼接光刻
套刻不支持支持單場(chǎng)/多場(chǎng)套刻
灰度光刻不支持支持3D灰度光刻

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