在生產(chǎn)和處理硅晶片時，磁盤須絕對潔凈。因此，晶片的表面處理工藝造成的污染必須要在清潔工序之后去除。為了滿足這些高的清潔度要求，清洗劑的濃度一定要保持在使用手冊規(guī)定的濃度之內(nèi)。
成功的清潔工藝有兩個條件：
1. 為了達成所需的清潔效果，清潔劑的濃度需要在規(guī)定范圍內(nèi)。
2. 在最后的漂洗過程后，須避免表面活性劑在硅晶片上殘留。殘留的表面活性劑對這之后的處理工藝會造成不利影響。
基于實驗數(shù)據(jù)，由于疏于監(jiān)控清潔和漂洗工序中表面活性劑的濃度，表面活性劑經(jīng)常過量。為了消除過量帶來的不利影響，往往要增加漂洗工位。
表面張力的測量，確保了在特定生產(chǎn)步驟中，表面活性劑濃度的監(jiān)測。通過精確控制表面活性劑濃度，可以使表面張力接近較佳值，此手段可節(jié)省大量的表面活性劑，從而去掉多余出的漂洗工位。不僅如此，在最后一道或者倒數(shù)第二道漂洗過程中，對殘留表面活性劑濃度的控制也可監(jiān)控清洗質(zhì)量。
測量不同表面活性劑濃度的清潔劑
用氣泡壓力表面張力儀測動態(tài)表面張力也能幫助我們選擇合適的清潔劑，而高活性、低表面張力的表面活性劑一般能達到更好的清潔效果。
至于監(jiān)控、清洗和漂洗過程，我們推薦您使用便攜式表面張力儀SITA DynoTester表面張力儀來進行隨機測量和SITA DynoLine表面張力儀進行自動和可靠的過程監(jiān)控。SITA DynoTester表面張力儀測量清洗池中瞬時表面張力值，然后通過定要添加來控制表面活性劑的濃度在合理范圍。相比之下，過程監(jiān)控系統(tǒng)SITA clean line ST的獨立系統(tǒng)的解決方案將自動監(jiān)測并定量添加。它可實現(xiàn)定時測量指定清洗池的表面張力并自動判斷測量值是否在合理范圍。
SITA clean line ST表面張力儀
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